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2007/10/31
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【EUVL速報】米CymerがLPP光源で100W達成を宣言,レジストは解像度20nm台の開発が進展 |
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解像性能という観点からは,ハーフピッチ30nmを切るレジストが多数発表され,25nmを切るレジストも見えつつある。2006年のEUVL Symposiumでは,CD-SEM観察の結果が多く,解像性を確認する上で重要な断面形状の観察結果が少なかったが,今回は米・欧・日の多くの研究機関から断面写真が提供され,20nm台の解像性の確認が進んでいる。... [Tech On! (会員登録）]続きを見る ... 【EUVL速報】米CymerがLPP光源で100W達成を宣言,レジストは解像度20nm台の開発が進展
Posted at 12:38 | この記事のURL | SEM
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